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습식 연삭과 건식 연삭의 비교

습식 분쇄에서는 나노 분말을 적절한 용매와 혼합하여 적합한 재료를 준비합니다. 분쇄 과정에서 분말 응집 현상을 방지하기 위해 적절한 분산제 또는 보조제를 분쇄 보조제로 첨가해야 합니다. 최종 나노 크기의 제품을 슬러리가 아닌 분말로 만들려면 먼저 슬러리에서 큰 입자를 여과하는 방법과 여과 된 슬러리를 건조하여 나노 크기의 분말을 얻는 방법을 고려해야합니다. 따라서 습식 분쇄로 나노 스케일 분말을 얻을 때 적절한 용매, 보조제, 여과 방법 및 건조 방법을 선택하는 방법도 나노 스케일 분말을 성공적으로 얻을 수 있는지 여부에 영향을 미칩니다.

분말 습식 분쇄가 분쇄 또는 분산 목적을 성공적으로 달성할 수 있는지 여부는 주로 분쇄 매체(지르코니아 비드)의 크기와 재료의 선택에 따라 달라집니다. 선택한 연삭 미디어 는 0.1-0.4mm 이하여야 합니다. 동시에, 이러한 작은 분쇄 매체가 분쇄 공정 중에 스핀들 방향으로 움직이는 슬러리의 추력에 영향을 받아 필터 스크린 근처에서 막히고 너무 높은 압력으로 인해 분쇄 챔버가 멈추는 것을 방지하기 위해 교반 로터의 선형 속도가 10m / 초 이상이어야합니다. 동시에, 슬러리 점도는 분쇄 매체의 움직임이 슬러리 점도의 영향을 받지 않도록 100 cps 이하로 조정됩니다. 동시에, 슬러리의 고체 함량은 분쇄 공정 중에 분말의 비 표면적 증가로 인한 점도 증가를 방지하고 작은 지르코늄 비드를 계속 사용할 수 없도록 35% 이하로 제어되어야합니다. 물론 0.3-0.4mm 지르코늄 비드가 동적 분리기에서 분쇄 챔버 밖으로 흘러 나오거나 필터 스크린에 막히는 것을 방지하려면 필터 스크린 간격을 0.1mm로 조정해야 합니다.

건식 및 습식 연삭

파우더를 빠르게 만나기 위해 습식 연삭 입자 크기 요구 사항을 충족하고 분쇄기가 정상적으로 작동하도록 하는 데 필요한 제어 규칙 및 매개 변수는 다음과 같습니다:

1. 필요한 입자 크기 요건에 따라 적절한 분쇄 매체를 선택합니다. 나노미터 요구 사항을 충족하고 분쇄 매체의 손실을 방지해야 하는 경우, 모스 경도가 클수록 좋으며 분쇄 매체의 표면은 진정한 원이고 기공이 없으며 크기가 0.05-0.4mm인 것을 선택해야 합니다. 연삭 매체가 작을수록 연삭 효과가 좋아지고 필요한 비에너지 값이 작아집니다. 분쇄 매체의 선택에 따라 원하는 입자 크기로 성공적으로 분쇄할 수 있는지 여부가 결정됩니다.

2. 분쇄 매체의 크기와 슬러리의 점도에 따라 적절한 교반 로터 속도를 조정합니다. 일반적으로 나노 수준의 연삭을 위해서는 속도가 12.5m/sec 이상이어야 합니다.

3. 분쇄 슬러리의 온도를 제어합니다. 일반적으로 나노 스케일 슬러리의 분쇄 온도는 45°C 이하로 제어해야 합니다. 슬러리 온도에 영향을 미치는 주요 파라미터는 로터 속도 제어, 분쇄 매체의 충진 속도, 분쇄 배럴의 열교환 면적 크기, 냉각수 상태 및 유량입니다.

4. 분쇄 매체의 크기에 따라 적절한 동적 분리 시스템 간격을 선택합니다. 일반적으로 간격은 지르코늄 비드 직경의 1/2~1/3입니다.

5. 펌프 속도를 조절합니다. 분쇄 배럴의 허용 압력 범위 내에서 펌프 속도가 높을수록 좋습니다. 이러한 방식으로 분쇄기를 통한 슬러리의 분쇄 횟수를 동일한 분쇄 시간으로 늘려 더 좁은 입자 크기 분포를 얻을 수 있습니다.

일반적으로 나노 크기의 분말을 얻기 위해서는 분쇄기를 사용하여 수십, 수백 번을 갈아야 나노 크기의 분말을 얻을 수 있습니다.

건식 연삭 는 분쇄 작업 중 재료의 수분 함량이 4%를 초과하지 않는 것을 의미하며, 습식 분쇄는 분쇄를 위해 운반 액체 흐름에 원료를 현탁시키고 분쇄를 돕기 위해 분산제와 같은 적절한 첨가제를 첨가하는 것입니다. 습식 분쇄기에서 재료의 수분 함량이 50%를 초과하면 먼지 날림 문제를 극복할 수 있습니다. 식품 가공에서 분쇄 된 재료는 종종 성분을 쉽게 용해시키기 위해 침출을위한 준비 작업으로 사용되므로 습식 분쇄에 매우 적합합니다. 그러나 습식 작동은 일반적으로 건식 작동보다 더 많은 에너지를 소비하고 장비가 더 심각하게 마모됩니다.

건식 분쇄기가 분말을 분쇄하면 많은 양의 에너지가 유입되어 분말의 온도가 급격히 상승합니다. 분말 입자가 정제되면 폭발 문제를 피하는 방법은 분쇄기가 제어하기 어렵습니다. 따라서 습식 분쇄 방법이 등장했으며 습식 분쇄로 얻은 분말이 가장 효과적이고 경제적 인 방법입니다. 화학적 나노 분말 제조의 높은 비용을 피하고 나노 수준의 분말에 도달하기 어려운 기계적 건식 분쇄 미세도의 부족을 피할 수 있습니다. 일반적으로 건식 연삭의 입자 크기는 약 8um까지만 분쇄할 수 있으며, 더 미세하거나 나노미터 수준에 도달하려면 습식 연삭을 사용해야 합니다.

건식 분쇄는 분쇄 작업 중 재료의 수분 함량이 4%를 초과하지 않는 것을 의미하며, 습식 분쇄는 분쇄를 위해 운반 액체 흐름에 원료를 현탁시키고 분쇄를 돕기 위해 분산제와 같은 적절한 첨가제를 첨가하는 것입니다. 습식 분쇄기에서 재료의 수분 함량이 50%를 초과하면 먼지 날림 문제를 극복할 수 있습니다. 식품 가공에서 분쇄 된 재료는 종종 성분을 쉽게 용해시키기 위해 침출을위한 준비 작업으로 사용되므로 습식 분쇄에 매우 적합합니다.

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