Islak öğütmede, nano toz uygun bir malzeme hazırlamak için uygun bir çözücü ile karıştırılır. Öğütme işlemi sırasında toz topaklanması olgusundan kaçınmak için, öğütme yardımcıları olarak uygun dağıtıcılar veya yardımcı maddeler eklemek gerekir. Nihai nano ölçekli ürünün bulamaç yerine toz olmasını istiyorsanız, önce bulamaçtaki büyük partikülleri nasıl filtreleyeceğinizi ve nano ölçekli bir toz elde etmek için filtrelenmiş bulamacı nasıl kurutacağınızı düşünmeniz gerekir. Bu nedenle, nano ölçekli toz yaş öğütme ile elde edildiğinde, uygun çözücü, yardımcı madde, filtreleme yöntemi ve kurutma yönteminin nasıl seçileceği de nano ölçekli tozun başarılı bir şekilde elde edilip edilemeyeceğini etkileyecektir.
Toz ıslak öğütmenin öğütme veya dağıtma amacına başarılı bir şekilde ulaşıp ulaşamayacağı, esas olarak öğütme ortamının (zirkonya boncuklar) boyutunun ve malzemesinin seçimine bağlıdır. Seçilen malzeme öğütme malzemeleri 0,1-0,4 mm veya daha az olmalıdır. Aynı zamanda, bu kadar küçük bir öğütme ortamının öğütme işlemi sırasında mil yönünde hareket eden bulamacın itme kuvvetinden etkilenmesini önlemek için, filtre süzgecinin yakınında tıkanacak ve çok yüksek basınç nedeniyle öğütme odasının durmasına neden olacaktır, karıştırma rotorunun doğrusal hızının 10 m / sn'den fazla veya daha fazla olması gerekir. Aynı zamanda, bulamaç viskozitesi 100 cps'nin altına ayarlanır, böylece öğütme ortamının hareketi bulamaç viskozitesinden etkilenmez. Aynı zamanda, öğütme işlemi sırasında tozun özgül yüzey alanındaki artış nedeniyle viskozitedeki artışı önlemek için bulamacın katı içeriği de 35%'nin altında kontrol edilmelidir ve küçük zirkonyum boncukların kullanımına devam edilemez. Tabii ki, 0,3-0,4 mm zirkonyum boncukların dinamik ayırıcıdan öğütme odasından dışarı akmasını veya filtre süzgecinde tıkanmasını önlemek için filtre süzgeci boşluğunun 0,1 mm'ye ayarlanması gerekir.
Kuru ve ıslak öğütme
Tozu hızlı bir şekilde karşılamak için ıslak öğütme partikül boyutu gereksinimleri ve öğütücünün normal çalışmasını sağlamak için gerekli kontrol kuralları ve parametreleri aşağıdaki gibidir:
1. Gerekli parçacık boyutu gereksinimlerine göre uygun öğütme ortamını seçin. Nanometre gereksinimlerini karşılamanız ve öğütme ortamı kaybını önlemeniz gerekiyorsa, Mohs sertliği ne kadar büyükse o kadar iyi seçin ve öğütme ortamının yüzeyi gerçek bir daire, gözeneksiz ve 0,05-0,4 mm boyutunda olmalıdır. Öğütme ortamı ne kadar küçük olursa, öğütme etkisi o kadar iyi ve gerekli spesifik enerji değeri o kadar küçük olur. Öğütme ortamının seçimi, istenen parçacık boyutuna başarılı bir şekilde öğütülüp öğütülemeyeceğini belirleyecektir.
2. Öğütme ortamının boyutuna ve bulamacın viskozitesine göre uygun karıştırma rotoru hızını ayarlayın. Genel olarak, nano düzeyde öğütme için hızın 12,5 m/sn'nin üzerinde olması gerekir.
3. Öğütme bulamacının sıcaklığını kontrol edin. Genel olarak, nano ölçekli bulamacın öğütme sıcaklığının 45°C'nin altında kontrol edilmesi gerekir. Bulamaç sıcaklığını etkileyen ana parametreler rotor hızının kontrolü, öğütme ortamının doluluk oranı, öğütme varilinin ısı değişim alanının boyutu, soğutma suyu durumu ve akış hızıdır.
4. Öğütme ortamının boyutuna göre uygun dinamik ayırma sistemi boşluğunu seçin. Genel olarak, boşluk zirkonyum boncuk çapının 1/2 ila 1/3'ü kadardır.
5. Pompa hızını ayarlayın. Öğütme varilinin kabul edilebilir basınç aralığında, pompa hızı ne kadar yüksek olursa o kadar iyidir. Bu şekilde, daha dar bir partikül boyutu dağılımı elde etmek için aynı öğütme süresinde bulamacın öğütücüden geçme sayısı artırılabilir.
Genel olarak, nano boyutlu toz elde etmek için, nano boyutlu toza ulaşmak amacıyla onlarca kez, hatta yüzlerce kez öğütmek için bir öğütücü kullanmak gerekir.
Kuru öğütme öğütme işlemi sırasında malzemenin su içeriğinin 4%'yi aşmaması anlamına gelirken, ıslak öğütme, öğütme için taşıyıcı sıvı akışında hammaddeyi askıya almaktır ve öğütmeye yardımcı olmak için dağıtıcı maddeler gibi uygun katkı maddeleri eklenir. Malzemenin nem içeriği ıslak öğütme makinesinde 50%'yi aştığında, toz uçuşması sorununun üstesinden gelinebilir. Gıda işlemede, öğütülmüş malzeme genellikle bileşenlerin çözünmesini kolaylaştırmak için liç için bir hazırlık işlemi olarak kullanılır, bu nedenle ıslak öğütme için oldukça uygundur. Bununla birlikte, ıslak işlem genellikle kuru işlemden daha fazla enerji tüketir ve ekipman daha ciddi şekilde aşınır.
Kuru öğütücü tozu öğüttüğünde, büyük miktarda enerjinin girmesi nedeniyle tozun sıcaklığı keskin bir şekilde yükselecektir. Toz parçacıkları rafine edildiğinde, öğütücünün kontrol etmesi için patlama sorunlarından nasıl kaçınılacağı zordur. Bu nedenle ıslak öğütme yöntemi ortaya çıkmıştır ve ıslak öğütme ile elde edilen toz en etkili ve ekonomik yöntemdir. Kimyasal nano toz üretiminin yüksek maliyetini önler ve ayrıca nano düzeyde toza ulaşması zor olan mekanik kuru öğütme inceliği sıkıntısını ortadan kaldırır. Genel olarak, kuru öğütmenin parçacık boyutu yalnızca yaklaşık 8um'a kadar öğütülebilir, daha ince veya nanometre seviyesine ulaşmak istiyorsanız, ıslak öğütme kullanmanız gerekir.
Kuru öğütme, öğütme işlemi sırasında malzemenin su içeriğinin 4%'yi aşmaması anlamına gelirken, ıslak öğütme, öğütme için taşıyıcı sıvı akışında hammaddeyi askıya almaktır ve öğütmeye yardımcı olmak için dağıtıcı maddeler gibi uygun katkı maddeleri eklenir. Malzemenin nem içeriği ıslak öğütme makinesinde 50%'yi aştığında, toz uçuşması sorununun üstesinden gelinebilir. Gıda işlemede, öğütülmüş malzeme genellikle bileşenlerin çözünmesini kolaylaştırmak için liç için bir hazırlık işlemi olarak kullanılır, bu nedenle ıslak öğütme için oldukça uygundur.
